1. HOME
  2. よくあるご質問

よくあるご質問

受託全般

Q

製造設備はファーミラ単独で保有していますか?

A

弊社単独で保有しております。

Q

QA、QCは自社で対応可能でしょうか?

A

自社に組織しておりますが、QCにおける分析業務の一部(GMP分析)について、現時点は外部委託を行っております。

Q

商用製造はファーミラで実施しますか?

A

将来、弊社で商用製造も対応します。ただし、バッチ製造については治験薬の製造業しか取得しておらず、連続製造の商用製造のみとなる予定です。

Q

SHIONOGIのグループ会社であるが、グループ内での情報管理はどのように規定していますか?

A

弊社単独で情報を管理しており、グループ会社であっても開示は行いません。

Q

R&D単独(製造を伴わない)の依頼でも受託可能でしょうか?

A

可能です。FTE契約(1人が1カ月業務に従事することを1FTEと表現)の締結が可能です。

技術

Q

連続製造のR&D検討に必要な最小サンプル量は?

A

数10g程度のサンプルがあれば1条件~検討が可能です。

Q

高薬理活性物質の製造は可能でしょうか?

A

バッチ製造/連続製造ともに対応可能です。

Q

反応と晶析の連続化に注力した理由は何でしょうか?

A

開発初期品を想定し、品質にインパクトのある反応と晶析に注力する戦略を選択しました。
開発後期品はノウハウも固まっているため濃縮や抽出も含めたEnd to Endにて連続化を進めたいと考えております。

Q

連続合成のノウハウ開発期間はどれぐらいを想定していますか?

A

バッチ処方の開示を前提として1工程につき2箇月程度を想定しています(1箇月で連続プロセス構築、1箇月で条件の最適化)。
ただし、物性によって前後すると考えております。

Q

反応のモニタリングはどの様に行いますか?

A

IRやラマン分光法を用いたPAT機器を導入済みです。in-lineのGC及びHPLCについては導入を検討中です。

Q

機器の洗浄方法は?

A

小さなスケールではシングルユースを想定しておりますが、大きな装置では分解洗浄が可能なcell型の設備をとっており、液だまりがなく、装置の組み立てや分解が容易に実施でき、リンスやスワブを実施しやすい装置構造を検討しています。
なお現在保有しているパイロット機(100g/h)は容量がバッチと比較し少ないため、洗浄期間も短く、通液洗浄、浸漬洗浄を想定しています。

光反応

Q

光源は何でしょうか?

A

450ナノメートルのLEDです。この光源である程度の反応は対応できると考えておりUVの導入は現時点では考えておりません。

Q

光反応装置のスケールと、ラボ機との相関性について教えてほしいです。

A

実機装置は約20kg/日のスケールで循環型の装置です。ラボ機はグラム単位で循環型の装置を保有しており相関性があります。
さらに小スケールであればバッチでの対応となります。

Q

連続運転できる時間はどれくらいを想定していますか?

A

反応液を循環し光反応を行っているため、原料消失までが連続運転時間と考えております。
大きな照射面の装置も導入しており、一度の照射で反応が終了すれば循環する必要はないと考えています。

Q

流速に制限はありますか?

A

照射装置自体に冷却機構は付帯していないので、光照射に際し液温が上昇するため許容温度を基に設計します。

連続晶析

Q

メリットは何でしょうか?

A

滞留時間の一定化による品質劣化の回避、晶析時間の短縮化による生産性の向上と品質劣化の回避、粒子径制御と乾式粉砕をおこなわないことによる品質劣化の回避(例:ICH M7で規定される不純物の制御など)等が挙げられます。

Q

連続晶析装置の概要を教えてほしいです。

A

貧溶媒と濃縮液をテイラー渦で混合するテイラーボルテックス装置を活用したものです。
温度制御(10~60℃)や種晶晶析も実施可能です。

Q

粒形が細かくなるとろ過性が問題になりませんか?

A

粒径が細かくても、粒度分布をシャープに揃えることによりろ過での目詰まりは起こりにくいです。ろ布の目開きをきちんと選定する必要はありますが、目詰まりは荒い結晶の間に細かい結晶が入り込むことで発生することがあるため、こちらを防ぐことができます。

Q

凝集することはないでしょうか?

A

化合物によるため一概には回答できませんが、これまで実施した事例では起こっておりません。

Q

連続晶析の粒径制御について、粒度が荒い粗いものも制御できますか?(数十μ)

A

20μmまでの制御実績はあるが、それ以上の大きさで制御できるかのデータはございません。
今後取得していきたいと考えております。

連続製造設備

Q

導入する連続反応機器はどのようなタイプのものでしょうか?

A

開発棟にはPFR(Plug Flow Reactor)タイプのリアクターを実装しており、3温度帯に調整が可能です。
なお反応に応じて追加でユニットを実装することも想定しています。

Q

現状対応可能な製造スケールは?

A

R&D検討については20g/h程度、初期治験薬製造については100g/h程度の設備を導入済みです。

Q

CSTR(Continuous Stirred tank Reactor)のものは利用していませんか?

A

R&D検討については実施可能であり、治験原薬製造スケールについては2024年度の導入を予定しています。

Q

連続分離装置ではどの程度の粒形で対応が可能と考えていますか?

A

化合物により条件設定は必要ですが、10-30μm程度の結晶は分離可能です。
今後10μm以下の結晶でもデータ取得を行います。

Q

後処理工程(抽出・濃縮etc.)について、連続でどのように対応を検討していますか?

A

抽出や濃縮はすでに市販のユニットがあるためこちらを活用することを検討中です。

Q

連続反応機の材質は?またどのような仕様のものを導入していますか?

A

ハステロイを導入済みです。用途によってテフロンライニングなども検討可能です。

Q

連続装置の防爆対応はどうしていますか?

A

法規制に則った設備を導入済みです。

CONTACT

資料請求・お問い合わせは、
以下メールフォームまたはお電話からお問い合わせください。

電話でのお問い合わせはこちら

06-6401-1324

受付 / 平日 9:00~17:00(土・日・祝日・当社休日を除く)